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国产芯片的难点在哪里?
张树民众信心,普及科技知识,哺育更多基础研究的科学家,尤其是芯片底层在研的工程技术人员,基础打牢了,才会有芯片质的提升。光刻机去美国化,充分利用现有国际国内资源,做光刻机全方位在研,争取多点开花,期待更趋精密的新的光刻机早日出现。
国产芯片的难点,其实比表面上看起来的还要难数十倍。
目前,国产芯片大部分都是买国外的IP(像CPU就是一个IP,绝大大多数都是买ARM公司的),以搭积木的形式来研发出来的。
芯片中的核心技术很少是自己的东西。大部分自研的东西,基本就是一些算法模块和一些功能小模块。
尤其,像接口类的IP基本全部被国外垄断,像电视、电脑上用的USB,HDMI,DP接口,都是Synopsys,Cadence和inter这些美国大公司垄断。中国也有公司在自研这些IP,但市场非常小。毕竟,国外的IP已经量产了几十年了,没有公司愿意去冒险用国产的IP,可能某些地方(比如军工)才会用到,而消费类电子基本都是用国外的。
研发芯片所用到的EDA工具,同样被国外垄断。如果哪天别人不让你用这些EDA工具,我可以直接说,这家芯片公司可以倒闭了。这就是为什么前几年,美国禁止哈工大使用Matlab工具这个事情可以上新闻。如果一个学校少了Matlab这个工具,那涉及到计算类的科研项目基本可以停滞了。
EDA工具基本是国产芯片的命门。国内也有公司在开始研发相关的EDA工具,但这个研发的难度远远大于芯片研发的难度。这个需要靠无数次的流片来验证你EDA工具的可靠性,否则哪家公司敢用??
最后,就是芯片晶圆厂的落后,中芯国际无论是流片的精度还是流片成功率,都远远落后于台积电。其实这个还好,毕竟中国已经开始在一步一步的在前进了,赶上台积电只是时间问题。最近,台积电开始搬到美国去,这是我们崛起的好机会。
国产芯片的崛起举步维艰。就算强如华为这样的企业,也扛不住制裁带来的冲击。
对于国产芯片的生产来说,并没有太大的难度,重点在光刻机的制造方面,如果没有光刻机的辅助,最好的芯片设计灵感与图纸,都是白搭。
我国电子工业起步并不算太晚。早在1956年,我国便提出了“向科学进军”的口号,并把电子工业的发展列为重点目标。
到了1958年北京和上海先后开始发展电子工业,并在全国部分地区成立了半导体研究所。到了1968年开始组建国营电子厂,主要生产集成电路。
最初我国电子产业的确发展的不错,当然这有一部分得益于归国华侨的功劳。而后来发生了一些事,电子产业的发展也就陷入了僵持状态,到了1977年,几乎全面落后于日本。
而在这期间,世界半导体正突飞猛进的发展着,电子科技巨头英特尔、高通等企业开始迅速崛起。
说了这么多,还没进入今天的主题。
我们所知的芯片最关键的一环,当属光刻机。其次才是设计软件与灵感。三者互为一体,缺一不可。
而目前世界上最先进的光刻机,当属荷兰的阿斯麦尔。它是由美国、德国、荷兰、日本、瑞典等国家共同研发,其一台售价超过1亿美元。尽管如此,在市面上依然供不应求。目前占了全世界光刻机份额的80%左右,还几乎囊括了整个高端芯片领域。
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